Alumina /Al2O3 /알루미나 튜브, 판재, 기판, 봉재, 볼트, 너트, 링, 롤러, Electrode,  가공품외
 

Alumina / Al2O3 / 알루미나 스퍼터링 타겟 Sputtering Target

알루미나 세라믹(Alumina Ceramic, Al₂O₃)은 내열성, 전기 절연성, 내마모성, 화학적 안정성이 우수한 대표적인 산업용 세라믹 소재입니다.

알루미나 스퍼터링 타겟, Al2O3 Sputtering Target, 산화알루미늄 타겟을 공급합니다.
반도체, 디스플레이, 광학 코팅, 절연막 박막 증착용 고순도 세라믹 타겟으로 원형, 사각, 커스텀 사이즈 및 백킹 플레이트 본딩 상담이 가능합니다.
 

알루미나 스퍼터링 타겟은 Al₂O₃, Aluminum Oxide, Alumina Target으로도 불리며,
RF Magnetron Sputtering 공정에서 절연성 산화물 박막을 형성하기 위해 사용되는 대표적인 세라믹 타겟 소재입니다.
한국신소재는 연구소, 대학교, 반도체 장비·부품 개발사, 박막 코팅 업체를 대상으로 고순도 알루미나 스퍼터링 타겟을 공급하며,
고객 장비에 맞춘 직경, 두께, 순도, 가공 공차, 백킹 플레이트 본딩 사양까지 상담 가능합니다.

주문 제작 가능. 문의부탁드립니다